(100) wafer

напівпровідникова пластина, орієнтована в кристалографічній площині (100)

English-Ukrainian dictionary of microelectronics. 2013.

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  • Wafer — Als Wafer [ˈweɪfə(r)] (engl. „Waffel“ oder „Oblate“) werden in der Mikroelektronik, Photovoltaik und Mikrosystemtechnik kreisrunde oder quadratische, ca. 1 mm dicke Scheiben bezeichnet. Sie werden aus ein oder polykristallinen (Halbleiter… …   Deutsch Wikipedia

  • Wafer — Wa|fer 〈[ wɛıfə(r)] m. 3; El.〉 Halbleiterplatte, auf der elektr. Schaltungen untergebracht sind [engl.] * * * Wa|fer [ weɪfɐ ], der; s, [s] [engl. wafer, eigtl. = Waffel, Oblate] (Elektronik): dünne Scheibe aus Halbleitermaterial, auf die… …   Universal-Lexikon

  • Flat (Wafer) — Foto der Flat eines 150 mm Wafers (oben), im Vergleich zu einer Notch eines 200 mm Wafers (unten). Als Maßstab ein Streichholzkopf Eine Flat (engl. für flach) ist eine gerade Kante an der Seite eines Wafers. Sie dient zur Wafer Positionierung in… …   Deutsch Wikipedia

  • Electrical Wafer Sorting — Pour les articles homonymes, voir EWS. L Electrical Wafer Sorting (E.W.S.) est un procédé permettant de trier les puces fonctionnelles sur les plaques de silicium dès leur sortie de l usine, avant leur mise en boîtier. Fonction EWS :… …   Wikipédia en Français

  • EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… …   Deutsch Wikipedia

  • Thermal oxidation — In microfabrication, thermal oxidation is a way to produce a thin layer of oxide (usually silicon dioxide) on the surface of a wafer (semiconductor). The technique forces an oxidizing agent to diffuse into the wafer at high temperature and react… …   Wikipedia

  • EUV-Lithographie — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… …   Deutsch Wikipedia

  • EUVL — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… …   Deutsch Wikipedia

  • Die preparation — Wafer glued on blue tape and cut into pieces Die preparation is a step of semiconductor device fabrication during which a wafer is prepared for IC packaging and IC testing. The process of die preparation typically consists of 2 steps: wafer… …   Wikipedia

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